热壁LPCVD设备TEOS工艺炉管的使用与维护

通过介绍热壁LPCVD的TEOS工艺淀积SiO2薄膜的原理,分析了在淀积薄膜的过程中经常遇到的薄膜均匀性等方面的问题。重点分析了硅片中心与石英管轴心所处的相对位置对片内薄膜均匀性的影响关系、石英舟的位置以及恒温区的温度控制对片间均匀性的影响关系,并详细地分析、给出了具体的调整方法。对于该工艺炉管在实际的使用过程中经常遇到的一些故障现象,分析了产生故障的原因并提出了解决方法。最后对TEOS工艺炉管在日常使用过程中的保养和维护给出了一些建议。